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2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選

2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選

國立台灣美術館自 2015年4月10日至5月20日24時,辦理2015年科技融藝人才國外駐棧創作 公開徵選活動,詳情請參閱官網,敬請同學踴躍參加謝謝。

  • 申請名額及地點:
    1. 名額:2015年補助1-3名(駐棧機構擁有最後決定權,必要時得予從缺)。
    2. 地點:本年度與本館簽約之國外數位藝術機構為:
      1. 荷蘭V2_動態媒體藝術中心(V2_Institute for the Unstable Media,以下簡稱「V2_」):配合該中心之夏季駐棧計畫(Summer Session),於2015年7月開始為期約8至10週之駐棧。
      2. 西班牙LABoral藝術與創意產業中心(LABoral Centro de Arte y Creación Industrial):於2015年9月開始為期8至10週之駐棧。

       申請方式:請至「台灣數位藝術知識與創作流通平台」網站(http://www.digiarts.org.tw/)進行線上報名。如有操作上的問題,請於上班時間電洽本館承辦人員。

 

            官網:https://www.ntmofa.gov.tw/chinese/news01_1.aspx?NID=2384#

附加檔案大小
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